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Plasma Sources Science & Technology
  • 數據庫收錄SCIE
  • 創刊年份1992年
  • 年發文量242
  • H-index94

Plasma Sources Science & Technology

期刊中文名:等離子源科技ISSN:0963-0252E-ISSN:1361-6595

該雜志國際簡稱:PLASMA SOURCES SCI T,是由出版商IOP Publishing Ltd.出版的一本致力于發布物理與天體物理研究新成果的的專業學術期刊。該雜志以PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS研究為重點,主要發表刊登有創見的學術論文文章、行業最新科研成果,扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進展,選載對學科發展起指導作用的綜述與專論,促進學術發展,為廣大讀者服務。該刊是一本國際優秀雜志,在國際上有很高的學術影響力。

基本信息:
期刊簡稱:PLASMA SOURCES SCI T
是否OA:未開放
是否預警:
Gold OA文章占比:26.54%
出版信息:
出版地區:ENGLAND
出版周期:Bimonthly
出版語言:English
出版商:IOP Publishing Ltd.
評價信息:
中科院分區:2區
JCR分區:Q1
影響因子:3.3
CiteScore:7.1
雜志介紹 中科院JCR分區 JCR分區 CiteScore 投稿經驗

雜志介紹

Plasma Sources Science & Technology雜志介紹

《Plasma Sources Science & Technology》是一本以English為主的未開放獲取國際優秀期刊,中文名稱等離子源科技,本刊主要出版、報道物理與天體物理-PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領域的研究動態以及在該領域取得的各方面的經驗和科研成果,介紹該領域有關本專業的最新進展,探討行業發展的思路和方法,以促進學術信息交流,提高行業發展。該刊已被國際權威數據庫SCIE收錄,為該領域相關學科的發展起到了良好的推動作用,也得到了本專業人員的廣泛認可。該刊最新影響因子為3.3,最新CiteScore 指數為7.1。

本刊近期中國學者發表的論文主要有:

  • Self-consistent treatment of gas heating in modeling of a coaxial DBD in atmospheric pressure CO2

    Author: Zhou, Chen; Yuan, Chengxun; Kudryavtsev, Anatoly; Yasar Katircioglu, T.; Rafatov, Ismail; Yao, Jingfeng

  • Streamer dynamics and periodical discharge regime transitions under repetitive nanosecond pulses with airflow

    Author: Zhao, Zheng; Li, Chenjie; Guo, Yulin; Zheng, Xinlei; Sun, Anbang; Li, Jiangtao

  • Numerical simulation of gas breakdown characteristics in porous dielectric and theoretical analysis based on the capillary network model

    Author: Chen, Kai; Yao, Chenguo; Mao, Yilong; Wu, Feiyu; Chen, Yue; Dong, Shoulong; Wang, Hao

  • In situ probing of atmospheric-pressure warm air glow discharge for nitrogen fixation by multiple laser spectroscopies

    Author: Shu, Zhan; Qiao, Junjie; Yang, Qi; Song, Yijia; Wang, Dazhi; Xiong, Qing

英文介紹

Plasma Sources Science & Technology雜志英文介紹

Plasma Sources Science and Technology (PSST) reports on low-temperature plasmas and ionized gases operating over all ranges of gas pressure and plasma density, with varying degrees of ionization. The emphasis of PSST is on the fundamental science of these plasmas, their sources and the physical and chemical processes initiated or sustained by them, as elucidated through theoretical, computational or experimental techniques. PSST also reports on new experimentally or theoretically derived fundamental data (e.g. cross sections, transport coefficients) required for investigation of low temperature plasmas. Reports that relate to the technology and applications of these plasmas should be closely linked to the science and fundamental processes occurring in the plasma state.

中科院SCI分區

Plasma Sources Science & Technology雜志中科院分區信息

2023年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2022年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 1區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月舊的升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月基礎版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2021年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 1區

2020年12月舊的升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:物理與天體物理 2區
小類:

PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
物理:流體與等離子體 2區

中科院SCI分區:是中國科學院文獻情報中心科學計量中心的科學研究成果。期刊分區表自2004年開始發布,延續至今;2019年推出升級版,實現基礎版、升級版并存過渡,2022年只發布升級版,期刊分區表數據每年底發布。 中科院分區為4個區。中科院分區采用刊物前3年影響因子平均值進行分區,即前5%為該類1區,6%~20%為2區、21%~50%為3區,其余的為4區。1區和2區雜志很少,雜志質量相對也高,基本都是本領域的頂級期刊。

JCR分區(2023-2024年最新版)

Plasma Sources Science & Technology雜志 JCR分區信息

按JIF指標學科分區
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集:SCIE
分區:Q1
排名:6 / 40
百分位:

86.3%

按JCI指標學科分區
學科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS
收錄子集:SCIE
分區:Q1
排名:6 / 40
百分位:

86.25%

JCR分區:JCR分區來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學科期刊評價工具,為唯一提供基于引文數據的統計信息的期刊評價資源。每年發布的JCR分區,設置了254個具體學科。JCR分區根據每個學科分類按照期刊當年的影響因子高低將期刊平均分為4個區,分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區中期刊的數量是均勻分為四個部分的。

CiteScore 評價數據(2024年最新版)

Plasma Sources Science & Technology雜志CiteScore 評價數據

  • CiteScore 值:7.1
  • SJR:0.771
  • SNIP:1.373
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q1 74 / 434

83%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經驗

Plasma Sources Science & Technology雜志投稿經驗

該雜志是一本國際優秀雜志,在國際上有較高的學術影響力,行業關注度很高,已被國際權威數據庫SCIE收錄,該雜志在PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS綜合專業領域專業度認可很高,對稿件內容的創新性和學術性要求很高,作為一本國際優秀雜志,一般投稿過審時間都較長,投稿過審時間平均 約6.0個月 ,如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請咨詢客服。

免責聲明

若用戶需要出版服務,請聯系出版商:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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