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Ieee Journal Of The Electron Devices Society
  • 數(shù)據(jù)庫收錄SCIE
  • 創(chuàng)刊年份2013年
  • 年發(fā)文量92
  • H-index23

Ieee Journal Of The Electron Devices Society

期刊中文名:IEEE電子器件學(xué)會雜志ISSN:2168-6734E-ISSN:2168-6734

該雜志國際簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI,是由出版商Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版的一本致力于發(fā)布工程技術(shù)研究新成果的的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊。該雜志以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC研究為重點,主要發(fā)表刊登有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文文章、行業(yè)最新科研成果,扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進(jìn)展,選載對學(xué)科發(fā)展起指導(dǎo)作用的綜述與專論,促進(jìn)學(xué)術(shù)發(fā)展,為廣大讀者服務(wù)。該刊是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有很高的學(xué)術(shù)影響力。

基本信息:
期刊簡稱:IEEE J ELECTRON DEVI
是否OA:開放
是否預(yù)警:
Gold OA文章占比:97.60%
出版信息:
出版地區(qū):UNITED STATES
出版周期:1 issue/year
出版語言:English
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
評價信息:
中科院分區(qū):3區(qū)
JCR分區(qū):Q3
影響因子:2
CiteScore:5.2
雜志介紹 中科院JCR分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 投稿經(jīng)驗

雜志介紹

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志介紹

《Ieee Journal Of The Electron Devices Society》是一本以English為主的開放獲取國際優(yōu)秀期刊,中文名稱IEEE電子器件學(xué)會雜志,本刊主要出版、報道工程技術(shù)-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究動態(tài)以及在該領(lǐng)域取得的各方面的經(jīng)驗和科研成果,介紹該領(lǐng)域有關(guān)本專業(yè)的最新進(jìn)展,探討行業(yè)發(fā)展的思路和方法,以促進(jìn)學(xué)術(shù)信息交流,提高行業(yè)發(fā)展。該刊已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,為該領(lǐng)域相關(guān)學(xué)科的發(fā)展起到了良好的推動作用,也得到了本專業(yè)人員的廣泛認(rèn)可。該刊最新影響因子為2,最新CiteScore 指數(shù)為5.2。

本刊近期中國學(xué)者發(fā)表的論文主要有:

  • Monolithic Dual-Gate E-Mode Device-Based NAND Logic Block for GaN MIS-HEMTs IC Platform

    Author: Zhu, Yuhao; Li, Fan; Cui, Miao; Fang, Zhicheng; Li, Ang; Yang, Dongyi; Zhao, Yinchao; Wen, Huiqing; Liu, Wen

  • New Insights Into Noise Characteristics of Hot Carrier Induced Defects in Polysilicon Emitter Bipolar Junction Transistors and SiGe HBTs

    Author: Zhu, Kunfeng; Zhang, Peijian; Xu, Zicheng; Wang, Tao; Yi, Xiaohui; Hong, Min; Yang, Yonghui; Zhang, Guangsheng; Liu, Jian; Wei, Jianan; Pu, Yang; Huang, Dong; Luo, Ting; Chen, Xian; Tang, Xinyue; Tan, Kaizhou; Chen, Wensuo

  • Cell Design Consideration in SiC Planar IGBT and Proposal of New SiC IGBT With Improved Performance Trade-Off

    Author: Zhang, Meng; Zhang, Yamin; Li, Baikui; Feng, Shiwei; Hua, Mengyuan; Tang, Xi; Wei, Jin; Chen, Kevin J.

  • Impact of Channel Thickness on the NBTI Behaviors in the Ge-OI pMOSFETs With Al2O3/GeOx Gate Stacks

    Author: Sun, Yu; Schwarzenbach, Walter; Yuan, Sicong; Chen, Zhuo; Yang, Yanbin; Nguyen, Bich-Yen; Gao, Dawei; Zhang, Rui

英文介紹

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志英文介紹

The IEEE Journal of the Electron Devices Society (J-EDS) is an open-access, fully electronic scientific journal publishing papers ranging from fundamental to applied research that are scientifically rigorous and relevant to electron devices. The J-EDS publishes original and significant contributions relating to the theory, modelling, design, performance, and reliability of electron and ion integrated circuit devices and interconnects, involving insulators, metals, organic materials, micro-plasmas, semiconductors, quantum-effect structures, vacuum devices, and emerging materials with applications in bioelectronics, biomedical electronics, computation, communications, displays, microelectromechanics, imaging, micro-actuators, nanodevices, optoelectronics, photovoltaics, power IC's, and micro-sensors. Tutorial and review papers on these subjects are, also, published. And, occasionally special issues with a collection of papers on particular areas in more depth and breadth are, also, published. J-EDS publishes all papers that are judged to be technically valid and original.

中科院SCI分區(qū)

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志中科院分區(qū)信息

2023年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 3區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 4區(qū)

2022年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 3區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 3區(qū)

2021年12月舊的升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 3區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 3區(qū)

2021年12月基礎(chǔ)版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 4區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 4區(qū)

2021年12月升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 3區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 3區(qū)

2020年12月舊的升級版
綜述:
TOP期刊:
大類:工程技術(shù) 3區(qū)
小類:

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程:電子與電氣 3區(qū)

中科院SCI分區(qū):是中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報中心科學(xué)計量中心的科學(xué)研究成果。期刊分區(qū)表自2004年開始發(fā)布,延續(xù)至今;2019年推出升級版,實現(xiàn)基礎(chǔ)版、升級版并存過渡,2022年只發(fā)布升級版,期刊分區(qū)表數(shù)據(jù)每年底發(fā)布。 中科院分區(qū)為4個區(qū)。中科院分區(qū)采用刊物前3年影響因子平均值進(jìn)行分區(qū),即前5%為該類1區(qū),6%~20%為2區(qū)、21%~50%為3區(qū),其余的為4區(qū)。1區(qū)和2區(qū)雜志很少,雜志質(zhì)量相對也高,基本都是本領(lǐng)域的頂級期刊。

JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志 JCR分區(qū)信息

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:202 / 352
百分位:

42.8%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
收錄子集:SCIE
分區(qū):Q3
排名:179 / 354
百分位:

49.58%

JCR分區(qū):JCR分區(qū)來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學(xué)科期刊評價工具,為唯一提供基于引文數(shù)據(jù)的統(tǒng)計信息的期刊評價資源。每年發(fā)布的JCR分區(qū),設(shè)置了254個具體學(xué)科。JCR分區(qū)根據(jù)每個學(xué)科分類按照期刊當(dāng)年的影響因子高低將期刊平均分為4個區(qū),分別為Q1、Q2、Q3和Q4,各占25%。JCR分區(qū)中期刊的數(shù)量是均勻分為四個部分的。

CiteScore 評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志CiteScore 評價數(shù)據(jù)

  • CiteScore 值:5.2
  • SJR:0.505
  • SNIP:0.955
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Materials Science 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 90 / 284

68%

大類:Materials Science 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 253 / 797

68%

大類:Materials Science 小類:Biotechnology Q2 139 / 311

55%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經(jīng)驗

Ieee Journal Of The Electron Devices Society雜志投稿經(jīng)驗

該雜志是一本國際優(yōu)秀雜志,在國際上有較高的學(xué)術(shù)影響力,行業(yè)關(guān)注度很高,已被國際權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC綜合專業(yè)領(lǐng)域?qū)I(yè)度認(rèn)可很高,對稿件內(nèi)容的創(chuàng)新性和學(xué)術(shù)性要求很高,作為一本國際優(yōu)秀雜志,一般投稿過審時間都較長,投稿過審時間平均 9 Weeks ,如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預(yù)警名單,建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案,請咨詢客服。

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù),請聯(lián)系出版商:445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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