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首頁 SCI 期刊物理與天體物理期刊中科院2區 JCRQ3 期刊介紹(非官網)

數據庫收錄SCIE
創刊年份2007年
年發文量0
H-index37

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

期刊中文名：微納光刻技術雜志ISSN：1932-5150E-ISSN：1932-5134

該雜志國際簡稱：J MICRO-NANOLITH MEM，是由出版商SPIE出版的一本致力于發布物理與天體物理研究新成果的的專業學術期刊。該雜志以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC研究為重點，主要發表刊登有創見的學術論文文章、行業最新科研成果，扼要報道階段性研究成果和重要研究工作的最新進展，選載對學科發展起指導作用的綜述與專論，促進學術發展，為廣大讀者服務。該刊是一本國際優秀雜志，在國際上有很高的學術影響力。

基本信息：: 期刊簡稱：J MICRO-NANOLITH MEM; 是否OA：未開放; 是否預警：否; Gold OA文章占比：7.69%

出版信息：: 出版地區：UNITED STATES; 出版周期：Quarterly; 出版語言：English; 出版商：SPIE

評價信息：: 中科院分區：2區; JCR分區：Q3; CiteScore：3.4

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雜志介紹中科院JCR分區 JCR分區 CiteScore 投稿經驗

雜志介紹

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志介紹

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》是一本以English為主的未開放獲取國際優秀期刊，中文名稱微納光刻技術雜志，本刊主要出版、報道物理與天體物理-ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究動態以及在該領域取得的各方面的經驗和科研成果，介紹該領域有關本專業的最新進展，探討行業發展的思路和方法，以促進學術信息交流，提高行業發展。該刊已被國際權威數據庫SCIE收錄，為該領域相關學科的發展起到了良好的推動作用，也得到了本專業人員的廣泛認可。最新CiteScore 指數為3.4。

英文介紹

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志英文介紹

The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

中科院SCI分區

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志中科院分區信息

2023年12月升級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：物理與天體物理 2區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 3區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 3區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 3區

OPTICS
光學 3區

2022年12月升級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：物理與天體物理 3區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 4區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 4區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

OPTICS
光學 4區

2021年12月舊的升級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：工程技術 4區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 4區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 4區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

OPTICS
光學 4區

2021年12月基礎版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：工程技術 4區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 4區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 4區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

OPTICS
光學 4區

2021年12月升級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：工程技術 4區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 4區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 4區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

OPTICS
光學 4區

2020年12月舊的升級版

綜述：否

TOP期刊：否

大類：工程技術 3區

小類：

ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
工程：電子與電氣 4區

MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
材料科學：綜合 4區

NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
納米科技 4區

OPTICS
光學 4區

中科院SCI分區：是中國科學院文獻情報中心科學計量中心的科學研究成果。期刊分區表自2004年開始發布，延續至今；2019年推出升級版，實現基礎版、升級版并存過渡，2022年只發布升級版，期刊分區表數據每年底發布。中科院分區為4個區。中科院分區采用刊物前3年影響因子平均值進行分區,即前5%為該類1區，6%～20%為2區、21%～50%為3區，其余的為4區。1區和2區雜志很少，雜志質量相對也高，基本都是本領域的頂級期刊。

JCR分區（2023-2024年最新版）

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志 JCR分區信息

按JIF指標學科分區

學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC

收錄子集：SCIE

分區：Q3

排名：187 / 275

百分位：

32.2%

學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY

收錄子集：SCIE

分區：Q3

排名：255 / 342

百分位：

25.6%

學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY

收錄子集：SCIE

分區：Q4

排名：91 / 107

百分位：

15.4%

學科：OPTICS

收錄子集：SCIE

分區：Q3

排名：68 / 100

百分位：

32.5%

JCR分區：JCR分區來自科睿唯安公司,JCR是一個獨特的多學科期刊評價工具，為唯一提供基于引文數據的統計信息的期刊評價資源。每年發布的JCR分區，設置了254個具體學科。JCR分區根據每個學科分類按照期刊當年的影響因子高低將期刊平均分為4個區，分別為Q1、Q2、Q3和Q4，各占25%。JCR分區中期刊的數量是均勻分為四個部分的。

CiteScore 評價數據（2024年最新版）

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志CiteScore 評價數據

CiteScore 值：3.4
SJR：0.393
SNIP：1.723

學科類別	分區	排名	百分位
大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering	Q2	299 / 672	55%
大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q2	389 / 797	51%
大類：Engineering 小類：Atomic and Molecular Physics, and Optics	Q3	113 / 224	49%
大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics	Q3	223 / 434	48%
大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q3	155 / 284	45%

歷年影響因子和期刊自引率

投稿經驗

Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems雜志投稿經驗

該雜志是一本國際優秀雜志，在國際上有較高的學術影響力，行業關注度很高，已被國際權威數據庫SCIE收錄，該雜志在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC綜合專業領域專業度認可很高，對稿件內容的創新性和學術性要求很高，作為一本國際優秀雜志，一般投稿過審時間都較長，投稿過審時間平均較慢,6-12周，如果想投稿該刊要做好時間安排。版面費不祥。該雜志近兩年未被列入預警名單，建議您投稿。如您想了解更多投稿政策及投稿方案，請咨詢客服。